一般超纯水的核心部分都是反渗透系统，在确定了水源之后选择合适的反渗透膜。根据水源硬度等确定使用两级RO+离子交换系统还是选择 RO+阴阳床+离子交换系统。然后根据水源的特性确定反渗透之前预处理系统（超滤、M...
一般超纯水的核心部分都是反渗透系统，在确定了水源之后选择合适的反渗透膜。根据水源硬度等确定使用两级RO+离子交换系统还是选择 RO+阴阳床+离子交换系统。然后根据水源的特性确定反渗透之前预处理系统（超滤、MF、AC等）。
要点：反渗透是制取纯水的核心设备，如何运行好反渗透关键在于预处理，只有严格控制好RO系统进水指标，RO系统才能平稳运行。
| 大流量滤芯 | |||
| 中文名 | 大流量滤芯 | 长度 | 1016mm |
| 外文名 | Large flow filter | 外径 | 152mm-161mm |
| 工作压差 | ≤0.245MPA | 过滤比 | β≥1000 |
| 流量 | 70m/h | 结构 | 导流层、支撑层、过滤层 |
| 寿命 | 3-6个月 | 连接方式 | 超声波热熔 |
| 密封 | 丁晴橡胶 | 精度范围 | 1-50微米 |
在半导体产品的制造过程中，由于生产设备的精度和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其是作为半导体行业血液的超纯水系统。半导体行业超纯水的制造过程可以概括为四个部分，即预处理部分、反渗透部分、电去离子部分和抛光混床部分。在一些半导体工厂中，“负床和正床”也用来代替电去离子装置，主要是根据原水水质和生产水水质对弱电解质的要求。
产品优势
避免了传统离子再生消耗大量的酸碱，对环境更加友好；
克服了传统离子设备再生周期较长的问题；
超滤反洗排水、一级反渗透浓水排水和CEDI浓水排水及其回用措施有利于节能减排；
节约水资源和半导体制造单位的运营成本。
产品应用
预处理部分
多介质过滤器活性炭过滤器
粗滤器超滤装置
反渗透部分
逆渗透膜
电去离子部分
电子数据交换模块和电子数据交换模块
抛光混床
超纯水系统工艺流程
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(新工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)
